Nanomaker-editor Nanomaker es un potente software / sistema de hardware para la litografía basada SEM / FIB que está destinada al estado de la técnica ...
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Nanomaker-editor Clasificación y resumen

Nanomaker-editor Etiquetas

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Nanomaker-editor Descripción

Nanomaker es un potente sistema de software / hardware para la litografía basada SEM / FIB que está destinada a la tecnología de vanguardia de diseño y fabricación de dispositivos y objetos electrónicos micro y nano. La versión de prueba de Nanomaker-Editor se limita a la cantidad de elementos en la estructura a exportar. ¿Por qué Nanomaker? Nanomaker proporciona un conjunto único de posibilidades para las nanotecnologías. Se suministra con un editor gráfico amigable para diseñar estructuras jerárquicas de cualquier tamaño y forma dispuestas a cualquier nivel de complejidad. hace la simulación del desarrollo de resistencia. Calcula los valores de la dosis de exposición / veces considerando la corrección del efecto de proximidad para estructuras 2D / 3D. compensa la distorsión estática del sistema de desviación de haz de E. reduce significativamente el tiempo total de exposición al suprimir activamente los retrasos dinámicos de la desviación del haz de E. se puede utilizar como herramienta de diagnóstico para la creación de una vista panorámica de alta resolución de micro objetos de gran escala (centímetros). Propósitos: Para convertir cualquier microscopio electrónico de barrido (SEM) en un litografía de haz de E. para proporcionar una resolución definitiva de litografía con una cierta configuración (incluidas las litografías industriales). Lograr esto: Hacer corrección de efecto de proximidad durante la preparación de datos para la litografía Compensar la distorsión y retrasos del sistema de escaneo durante la exposición y la adquisición de imágenes Compensar la deriva del sistema a la exposición prolongada Para predecir los resultados de la litografía simulando. Para garantizar el ajuste para varias configuraciones de equipos litográficos, para la presencia o ausencia de sistemas de cintas de haz, etapas, etc. para crear estructuras tridimensionales en una resistencia. Para familiarizar al usuario con los principios básicos de la litografía. Microscopio electrónico de barrido controlado por Nanomaker Aplicaciones: microelectronics nanotecnología 3D Nano-Micro Patternning Óptica difractiva (hologramas sintéticos) para el rango visible y de rayos X Microscopía digital Fácilmente instalado en: SEM's (Jeol, Leo, Zeiss, Hitachi, Philips, Fei, Tescan, ...) Máquinas de haz de iones enfocadas STM / AFM Requisitos del sistema: I486 o procesador de clase Pentium Microsoft Windows 98 / Me / NT 4.0 / 2000 / XP 64 MB de RAM 20 MB de espacio de disco duro disponible Para obtener más información, visite nuestra página de inicio: http://nmaker.ru o http://nanomaker.ru.

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